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【產學營運中心】2019 GASE Formosa+ GX 國際專家工作坊-「繼往開來:建立全球化半導體研發及人才培育基地」,敬邀貴校相關領域之教職員生踴躍參加,請查照。

一、旨揭活動為本校與科技部全球事務與科學發展中心共同舉辦,

    並邀請國內外半導體元件材料領域著名學者及傑出產業領袖,

  從產學並進方式落實跨界整合及深化國際研究合作層面探討,分享如何導入國際能量並串聯企業合作,

  培育出新一代半導體研發創新人才,以持續推升臺灣半導體科技發展之全球優勢,

    歡迎相關領域人員踴躍參加。

二、活動相關資訊說明如下:   

  (一)時間:108年10月25日(星期五)10時至13時   

  (二)地點:國立交通大學(光復校區)浩然圖書資訊中心B1國際會議廳(新竹市東區大學路1001號)   

  (三)講者:   

     1、引言人:程海東 博士/交通大學國際半導體產業學院講座教授   

     2、與談人:   

         (1)任廣禹 博士/香港城市大學學務副校長   

          (2)孫元成 博士/前台積電副總經理兼技術長   

         (3)陳冠能 博士/交通大學國際長暨國際半導體產業學院副院長   

         (4)報名方式:

                      本活動免費入場,

                      自即日起受理報名,有意參與者請逕至線上報名系統登錄

            (https://forms.gle/cksMZQaHWETT71Wf9),席位有限額滿為止。   

         (5)本活動敬備餐點,為響應環保政策,請自行攜帶飲水容器。

三、檢附活動海報及議程各1份,如需進一步瞭解資訊,請逕洽本校研發處研發企劃組承辦人郭小姐,

  連絡電話03-5712121轉分機53255。

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